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2021

9-10

隨著半導體電子器件及集成電路技術的飛速發展，器件及電路結構越來越復雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束掃描電鏡所具備的強大的精細加工和微觀分析功能，使其廣泛應用于微電子設計和制造領域。FIB雙束掃描電鏡是指同時具有聚焦離子束(FocusedIonBeam，FIB)和掃描電子顯微鏡(ScanningElectronMicroscope，SEM)功能的儀器。它可以實現SEM實時觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細加工的...

2021

9-8

聚焦離子束顯微鏡原來可以用于這些地方！

聚焦離子束顯微鏡的利用鎵(Ga)金屬作為離子源，再加上負電場(Extractor)牽引端細小的鎵原子，而導出鎵離子束再以電透鏡聚焦，經過一連串可變孔徑光闌，決定離子束的大小，再經過二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面，利用物理碰撞來進行特定圖案的加工，一般單粒子束的顯微鏡，可以提供材料切割、沉積金屬、蝕刻金屬和選擇性蝕刻氧化層等功能。聚焦離子束顯微鏡主要應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析、TEM制樣等。1.精細切割及材料蒸鍍：利用顯微鏡可以在素玻璃上分別進行鎵離子精細切割及...

2021

8-24

FIB雙束電鏡是什么？有哪些功能？

隨著半導體電子器件及集成電路技術的飛速發展，器件及電路結構越來越復雜，這對微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來越高。FIB雙束電鏡所具備的強大的精細加工和微觀分析功能，使其廣泛應用于微電子設計和制造領域。FIB雙束電鏡系統是指同時具有聚焦離子束和掃描電子顯微鏡功能的系統，可以實現SEM實時觀測FIB微加工過程的功能，把電子束高空間分辨率和離子束精細加工的優勢集于一身。其中，FIB是將液態金屬離子源產生的離子束經過加速，再聚焦于樣品表面產生二次電子信號形成電子像，...

2021

8-22

FIB顯微鏡的原理和作用，快來了解一下吧！

隨著納米科技的發展，納米尺度制造業發展迅速，而納米加工就是納米制造業的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發展起來的聚焦離子束(FIB)技術利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，配合FIB顯微鏡等高倍數電子顯微鏡實時觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目前已廣泛應用于半導體集成電路修改、切割和故障分析等。FIB顯微鏡的工作原理：聚焦離子束(FIB)轟擊樣品表面，激發二次電子、中性原子、二次離子和光子等，收集這些信號，經處理顯示樣品的表面形貌。聚焦離子束的...

2021

8-20

TEM掃描電鏡能通過哪些信號得到被檢測樣品信息？

TEM掃描電鏡的制造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質表面時，被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特征x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子等多種的信號，以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時，也可產生電子-空穴對、晶格振動(聲子)、電子振蕩(等離子體)。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如：形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。TEM掃描電鏡正是根據上述不同信息產生的機理，...

2021

8-18

你知道透射電鏡是由哪幾個部分組成的嗎？

透射電鏡結構主要分為電子光學、真空系統和供電控制系統三個部分。一、透射電鏡電子光學部分：整個電子光學部分*置于鏡筒之內，自上而下順序排列著電子槍、聚光鏡、樣品室、物鏡、中間鏡、投影鏡、觀察室、熒光屏、照相機構等裝置。根據這些裝置的功能不同又可將電子光學部分分為照明系統、樣品室、成像系統及圖像觀察和記錄系統。1.照明系統：照明系統由電子槍、聚光鏡和相應的平移對中及傾斜調節裝置組成。它的作用是為成像系統提供一束亮度高、相干性好的照明光源。電子槍由陰極、柵極和陽極構成。在真空中通電...

2021

8-18

FEI掃描電鏡的哪些功能是我們不知道的？

FEI掃描電鏡專為細胞、細胞器、石棉、聚合物和軟材料等在環境溫度和低溫下的二維和三維成像而設計。以其可選的、可伸縮的冷凍箱和低劑量技術提高了電子束敏材料的成像質量。此外，可以在配置中添加側插式可伸縮能量色散光譜(EDS)探測器，以實現精確化學分析。超大間隙的C-Twin極靴提供了*的應用靈活性，再加上超高穩定性的電子鏡筒，為高分辨率三維表征、原位動態觀察和衍射應用提供了新的機會。FEI掃描電鏡具有高對比度、高質量的TEM和stem成像，可同時檢測多種信號，并可采用四通道集成s...

2021

8-18

sem掃描電鏡到底具有哪些優點？

sem掃描電鏡的分析室滿足了對元素(EDX，WDS)和晶體學(EBSD)樣品數據日益增長的需求，該分析室支持多個EDX檢測器，以提高通量并消除陰影效應。此外，分析室支持共面EDX/EBSD和平行光束WDS，以確保所有技術的佳定位。由于掃描電鏡的現場能力，即使在絕緣或高溫的樣品上也可以獲得可靠的分析結果。用于光子學，地球科學，陶瓷，玻璃和故障分析應用的其他樣品信息來自*的可伸縮RGB陰極發光檢測器。掃描電鏡將廣泛的成像和分析模式與新型先進的自動化技術相結合，可提供同類產品中完整...

2021

8-9

透射電鏡系統是由哪些部分組成的

透射電鏡是目前材料科學領域常用的分析儀器，廣泛地應用于各個領域。透射電鏡，全稱透射電子顯微鏡，簡稱TEM，是一種把經加速和聚集的電子束透射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度等相關，因此可以形成明暗不同的影像，影像在放大、聚焦后在成像器件（如熒光屏，膠片以及感光耦合組件）上顯示出來的顯微鏡。TEM系統由以下幾部分組成：1、電子槍：發射電子。由陰極，柵極和陽極組成。陰極管發射的電子通過柵極上的小孔形成射線束，經陽...

2021

8-2

掃描電鏡的工作原理及特點分析

掃描電鏡（ScanningElectronMicroscope,簡寫為SEM）是一個復雜的系統，濃縮了電子光學技術、真空技術、精細機械結構以及現代計算機控制技術。掃描電鏡主要是針對具有高低差較大、粗糙不平的厚塊試樣進行觀察，因而在設計上突出了景深效果，一般用來分析斷口以及未經人工處理的自然表面。工作原理：掃描電鏡電子槍發射出來的電子束，在加速電壓的作用下，經過電磁透鏡系統匯聚，形成一個細的電子束斑聚焦在樣品表面，末級透鏡上裝有的掃描線圈可控制電子束在樣品表面掃描，同時高能電子...